蘇伊士EDI模塊
E-Cell MK-3工業(yè)用電去離子（EDI）模塊
產(chǎn)品品牌：
GE
產(chǎn)品型號：
MK-3
產(chǎn)品簡介：
E-Cell MK-3模塊為電去離子（EDI）模塊，利用電流對反滲透（RO）產(chǎn)水進行去離子和和拋光處理。MK-3的產(chǎn)水為超純水，適用于當今對水質(zhì)要求最為苛刻的行業(yè)。
咨詢熱線：
0755-36535868
E-Cell MK-3模塊為電去離子（EDI）模塊，利用電流對反滲透（RO）產(chǎn)水進行去離子和和拋光處理。MK-3的產(chǎn)水為超純水，適用于當今對水質(zhì)要求最為苛刻的行業(yè)。
E-Cell MK-3模塊用于
● 為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水。
● 連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水。
● 無需對模塊內(nèi)的離子交換樹脂進行酸堿再生。
● 保證不漏水。
● 無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了系統(tǒng)設計。
典型應用
● 半導體
● 微電子技術(shù)
● 化工
● 發(fā)電（NOx，鍋爐給水）
● 一般工業(yè)（冶金等）
E-Cell MK-3模塊用于
● 為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水。
● 連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水。
● 無需對模塊內(nèi)的離子交換樹脂進行酸堿再生。
● 保證不漏水。
● 無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了系統(tǒng)設計。
典型應用
● 半導體
● 微電子技術(shù)
● 化工
● 發(fā)電（NOx，鍋爐給水）
● 一般工業(yè)（冶金等）
MK-3工業(yè)用電去離子（EDI）模塊技術(shù)參數(shù)
| MK-3模塊技術(shù)規(guī)格 | ||
| 標準產(chǎn)水流量 | 3.4m3/hr | 15.0gpm |
| 產(chǎn)水流量范圍 | 1.7~4.5m3/hr | 7.5~20.0gpm |
| 裝運重量 | 92kg | 202lbs |
| 尺寸（寬×高×深） | 30cm×61cm×48cm | 12”×24”×19” |
| 典型性能 | ||
| 產(chǎn)水水質(zhì) | ||
| 電阻率 | >16 MΩ.cm | |
| 鈉（按離子計） | <3 ppb | |
| 二氧化硅（SiO2）去除率 | 高至99%或出水含量＜5ppb | |
| 硼去除率 | >95% | |
| 運行參數(shù) | ||
| 回收率 | 高達95% | |
| 濃水流向 | 與產(chǎn)水流向相反 | |
| 電壓 | 0~300VDC | |
| 電流強度 | 0~5.2ADC | |
| 進水壓力 | 4.8~6.9bar | 70~100psi |
| 標準流量下的壓降 | 1.4~2.4bar | 20~35psi |
| 進水水質(zhì)規(guī)格 | ||
| 進水-總可交換陰離子（TEA，按CaCO3計） | ＜25mg/L | ＜25ppm |
| 進水-電導率，NaHCO3當量 | ＜43μs/cm | ＜43μs/cm |
| 溫度 | 4.4~38℃ | 40~100℉ |
| 總硬度（按CaCO3計） | ＜1.0mg/L | ＜1.0ppm |
| 二氧化硅（SiO2） | ＜1.0mg/L | ＜1.0ppm |
| 總有機碳（TOC，按C計） | ＜0.5mg/L | ＜0.5ppm |
| 余氯 | ＜0.05mg/L | ＜0.05ppm |
注：實際性能可能受現(xiàn)場水質(zhì)和工況影響而有所變化。
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